② 檢測限值規定:在50-100倍放大下全視野掃描時不得檢出大于50μm的粒子,而在200-500倍放大下則需精確統計D10、D50、D90等關鍵分布參數
③ 樣品制備需通過甘油稀釋法或專用制樣器實現顆粒的均勻分散,避免因聚集導致的假陽性結果
ZML310主要技術參數與藥典符合性對照
三、ZML310外用制劑粒度分析儀的技術突破與藥典符合性設計
ZML310基于全自動顯微鏡圖像法構建核心檢測體系,通過多項技術創新實現藥典標準的精準落地:
① 圖像采集系統:配置高分辨光學顯微鏡與2000萬像素數字相機,將檢測下限延伸至200nm,同時覆蓋3000μm的粒徑范圍,滿足從納米微球到常規結晶的全面分析需求。相機可適應不同亮度環境下的顯微成像,保證圖像質量的穩定性,這使得在進行群體顆粒的統計學分析時,能夠獲取大量準確的圖像數據,為后續的數據分析提供了豐富而可靠的素材。
② 數據處理與分析:內置先進的算法模型,能夠快速處理大量的顆粒圖像數據,準確統計單個視野下顆粒的各項參數,并進整體視野捕捉下顆粒的統計學分析,可以精確計算出D10、D50、D90等關鍵分布參數,并且分析結果的誤差控制在很小范圍內,符合《中國藥典》的嚴格要求。
③ 制樣模塊:搭配真空粉末分散器ZMD800,解決API原料藥和粉末團聚問題;搭配標準制樣器ZMD801,可精確控制樣品厚度,解決半固體制劑制樣誤差大的關鍵問題。